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日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000

參  考  價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)MC1000

品       牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時(shí)間：2020-12-22 08:58:08瀏覽次數(shù)：265次

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日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠zui大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000

日立高新電鏡制樣設(shè)備磁控濺射器MC1000采用了電磁管電極，能夠zui大限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的zui大樣品直徑：60 mm
日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的zui大樣品高度：20 mm
 
特點(diǎn)：
采用LCD觸摸屏，可以更加簡(jiǎn)便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件

規(guī)格：
 

項(xiàng)目說明
放電類型磁控二極管放電型（電場(chǎng)垂直于磁場(chǎng)）
電極組成反向平行盤（嵌入磁鐵）
電壓zui大0.4Kv DC（直流可變）
電流zui大40mA DC

噴鍍速率(zui大）[條件]

壓力：7Pa

放電電流:40mA

標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20mm

Pt靶(選配件)15nm/min
Pt-Pd靶（選配件）20nm/min
Au靶(選配件)35nm/min
Au-Pd靶（選配件）25nm/min
樣品尺寸zui大直徑Ф60mm
zui大高度20mm
機(jī)械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
電源要求單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m)
尺寸寬度450mm
長(zhǎng)度391mm
高度390mm
重量主機(jī):約25Kg 機(jī)械泵:約28kg

﹡¹：噴鍍速率僅供參考

﹡²：主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請(qǐng)從選項(xiàng)中選擇（鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)

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