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日立高新離子研磨裝置IM4000

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號IM4000

品       牌

廠商性質(zhì)代理商

所  在  地上海市

更新時間：2020-12-22 08:58:08瀏覽次數(shù)：261次

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日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

HITACHI Ion Milling System IM4000 的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！

日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性。
HITACHI Ion Milling System IM4000  的高通量能提高加工效率：與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計，減少了橫截面研磨時間。（zui大加工率：硅元素為300微米/小時--加工時間減少了66%。
HITACHI Ion Milling System IM4000  的可拆卸樣品臺裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺裝置拆卸。
 

特點(diǎn)

混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面高分辨觀察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積，均勻地研磨5 mm的平面，以突顯樣品的表面特性

高效：提高加工效率，與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計，減少了橫截面研磨時間(zui大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時間減少了66%)

可拆卸式樣品臺：為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨，樣品臺設(shè)計為可拆卸型

規(guī)格

項(xiàng)目描述
斷面加工臺平面研磨臺
氣源氬氣(Ar)
加速電壓0-6Kv
zui大研磨速率﹡¹﹡²（硅材質(zhì)）約300μm/h﹡¹﹡²

約20μm/h﹡³（點(diǎn)）

約2μm/h﹡?（面）

zui大樣品尺寸20（W）×12(D)×7(H)mmΦ50×25(H)mm
樣品移動范圍X±7mm,Y0－＋3mmX0－＋5mm
旋轉(zhuǎn)角度-1r/m，25r/m
擺動角度±15°，±30°，±40°±60°，±90°
傾斜-0-90°
氣體流量控制系統(tǒng)流量調(diào)節(jié)器
排氣系統(tǒng)渦輪分子泵(33L/S)+機(jī)械泵(50Hz時，135L/min,60Hz時，162L/min)
儀器外觀尺寸616（W）×705(D)×312(H)mm
儀器重量主機(jī)48kg+機(jī)械泵28Kg
可選附件光學(xué)顯微鏡（用于觀測研磨中的樣品）

﹡¹：此研磨速率是對研磨板邊緣處的硅材質(zhì)的材料研磨至100μm粒度時所獲得的zui大深度值

﹡²：此研磨速率是對硅材質(zhì)的材料進(jìn)行研磨兩小時后獲得的平均值

﹡³：照射角度60°偏心值4mm

﹡?:照射角度0°偏心值0mm

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