京邁研3524   三氧化鉬靶材  MoO3磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料 

【參數(shù)說(shuō)明】

支持靶材定制，請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)?。?/span> 

【產(chǎn)品介紹】

白色或蒼黃色、透明斜方晶體。密度4.692g/cm3。熔點(diǎn)795℃。沸點(diǎn)1155℃  升華  。加熱時(shí)變黃色，冷時(shí)即復(fù)原。即使在低于熔點(diǎn)情況下，也有顯著的升華現(xiàn)象。不溶于水，能溶于氨水和強(qiáng)堿。與堿溶液和許多金屬氧化物反應(yīng)生成鉬酸鹽和多鉬酸鹽。由輝鉬礦  MoS2  灼燒或?qū)Ⅺ}酸加入鉬酸銨中析出鉬酸后再加熱熔燒而制得，亦可直接煅燒鉬酸銨得到。用于制金屬鉬和鉬的化合物。

【關(guān)于我們】

服務(wù)項(xiàng)目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊?，質(zhì)量保證，售后無(wú)憂(yōu)！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 

質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差，連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您，選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無(wú)氧銅作為背靶。

注  ：高純銦的熔點(diǎn)約為156℃，靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。

我公司主營(yíng)金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢(xún)。