美國WALCHEM禾威WCU410化學鍍銅/蝕銅控制器

常用型號:WCU410-5N1U,WCU410-5N2U,WCU410-5N3U,WCU410-5NNU

測量性能

• 濃度范圍 （WCU）: 0.01~5.5 g/L （0.001~0.73 oz/gal）

• 鎳的濃度范圍 （WNI）: 0.01~10 g/L （0.001~0.73 oz/gal）

• 精度: 0.01 g/L （0.001 oz/gal）

Walchem的WCU410鍍銅控制器和WNI410鍍鎳控制器是應用光電學原理在線分析測量溶液中銅或鎳的濃度。其應用廣泛，包括無電解化學鍍槽和微蝕刻槽（包括氧化還原類）。
WCU410可以通過菜單切換化學鍍銅至微蝕應用，無需增加另一臺控制器。減少滴定檢驗的工序從而提高效率；應用于微蝕刻工藝時，減少更換槽內(nèi)液體的頻率而提高生產(chǎn)力。
WNI410供鍍鎳控制，可增加pH控制。設有兩個控制泵之獨立輸出信號，供鎳鍍液和還原劑而設；另一個輸出專為pH而設。每個輸出端口都可以統(tǒng)計泵的運作時間、總流量和金屬離子周轉量。
已通過UL/CSA/CE認證。

參數(shù)調整
用戶可以輕易地調整濃度設定點、警報設定點（上限及下限）、緩沖范圍及泵運作時間。而聯(lián)鎖功能通過外接組件（例如流量開關）連結同時控制繼電器。

簡單、綜合的數(shù)據(jù)采集
只需一個U盤即可從控制器下載存儲的數(shù)據(jù)。使用這些數(shù)據(jù)可以驗證系統(tǒng)性能，而數(shù)據(jù)和事件日志顯示銅或鎳數(shù)值以及化學品累計投放量和繼電器啟動時間。

4個獨立控制繼電器及輸出端口（WCU）
可用于添加銅液、腐蝕劑、甲醛或螯合劑/穩(wěn)定劑。每個輸出端口都統(tǒng)計總補充量（以時間或流量為單位）。

可選的pH輸入組件（WNI）
可用于添加調節(jié)pH值的化學品，輸出端口統(tǒng)計總補充量（以時間或流量為單位）。

濃度讀數(shù)單位
選擇以克/每升（g/L）或盎司/每加侖（oz/gal）為單位。背光電子顯示屏能夠提供柱狀圖，將設定點與測量值的數(shù)據(jù)連續(xù)顯示。

規(guī)格

WCU

WNI