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產(chǎn)品報價
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ERS2000-在線式水性環(huán)氧樹脂高速乳化機
簡單介紹： IKN在線式水性環(huán)氧樹脂乳化機采用變頻調(diào)速，各種規(guī)格、運轉穩(wěn)定有力，適合各種粘度；液壓、機械兩種升降形式，升降旋轉自如，適應各種位置；普通及防爆配置，安全可靠，操作維護簡單；生產(chǎn)連續(xù)性強，對物料可進行快速乳化和溶解。118900
2025/4/22
CMSD2000-石墨烯增強鋁基納米復合材料研磨分散機
簡單介紹： 石墨烯增強鋁基納米復合材料研磨分散機設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。119800 2025/3/17
ERS2000-橡膠抗氧劑高速乳化分散機簡單介紹： 橡膠抗氧劑高速乳化分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通分散機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通分散機不能承受高轉速的運行119800 2025/4/22
CMSD2000-納米氧化鋅固液研磨分散設備簡單介紹： 納米氧化鋅固液研磨分散設備采用德國博格曼雙端面機械密封，在保證冷卻水的前提下，可24小時連續(xù)運行。而普通分散機很難做到連續(xù)長時間的運行，并且普通分散機不能承受高轉速的運行119800 2024/7/8
CMSD2000-圓珠筆用炭黑水性色漿的分散設備
簡單介紹： 圓珠筆用炭黑水性色漿的分散設備能夠實現(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到較全面的清洗。119800 2025/3/17
ERS2000-新型鋁銀粉研磨分散設備簡單介紹： 新型鋁銀粉研磨分散設備設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。119800 2024/7/8
ERX2000-獸用混懸注射液研磨均質(zhì)機簡單介紹： 獸用混懸注射液研磨均質(zhì)機機采用德國雙端面機械密封，并配有冷卻系統(tǒng)，可確保設備24小時連續(xù)生產(chǎn)，設備穩(wěn)定性能高。模塊化設計理念，可以更加物料的具體需求變換模塊，實驗多種生產(chǎn)需求。108900 2025/3/17
ERX2000-防水劑石蠟改性高速乳化機
簡單介紹： 防水劑石蠟改性高速乳化機采用德國雙端面機械密封，并配有冷卻系統(tǒng)，可確保設備24小時連續(xù)生產(chǎn)，設備穩(wěn)定性能高。模塊化設計理念，可以更加物料的具體需求變換模塊，實驗多種生產(chǎn)需求。119800 2024/7/8
ERS2000-納米水性聚氨酯涂料剪切分散設備
簡單介紹： 納米水性聚氨酯涂料剪切分散設備可以處理量大，運轉更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，*，物料通過分散剪切。198000 2024/7/8
CMD2000-被新材料行業(yè)重用的研磨分散設備簡單介紹： 被新材料行業(yè)重用的研磨分散設備設計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。119800 2024/7/8
ERS2000-超細活性碳研磨分散機,高速分散設備
簡單介紹：超細活性碳研磨分散機,高速分散設備，可以處理量大，運轉更平穩(wěn)，拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn)，粒徑分布范圍窄，分散效果佳，物料均勻通過分散剪切。依肯（IKN）研磨分散機設計，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可...108900 2025/4/22
PLC 2000-氣相二氧化硅粉液混合機簡單介紹： 氣相二氧化硅粉液混合機一種高科技多功能的*設備，具有快速高效、混合均勻、連續(xù)生產(chǎn)、操作方便、易于清洗、并且占地少、投資省、效益高的特點，廣泛用于高分子材料成型加工以及制藥、染料、塑料、造紙等行業(yè)。108900 2025/4/22
超細混合高剪切濕法研磨機
簡單介紹： 濕法超細混合研磨機，濕法超細膠體磨適用于各類纖維類物料的連續(xù)性生產(chǎn)或循環(huán)加工，當物料從設備進口被自動吸入工作腔后，經(jīng)過多個剪切面，產(chǎn)生了成百上千次強烈地剪切、撞擊、研磨和空穴等綜合作用，使物料達到顯著的濕法超細效果。108900 2025/3/26