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昌隆光伏20噸超純水設(shè)備

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溫州恒通水處理設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品介紹半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品介紹

半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

工藝簡介

電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話，會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中，如其中混入雜質(zhì)，就會(huì)影響電子的發(fā)射，進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命，在顯像管和陰極射線管生產(chǎn)中，其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì)，如其配制純水中含銅在8ppb以上，就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。

工藝流程

產(chǎn)品特點(diǎn)

電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。

主要應(yīng)用

1、大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水，一般電阻率均大于18MO-CM。按國家有關(guān)用水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)執(zhí)行。
2、電子元件廠，在焊接和組裝過程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同，其用水標(biāo)準(zhǔn)中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(一級電導(dǎo)率18MO-CM以上，二級電阻率不低于15MO-CM，3級電阻率12MO-CM, 4級為0.5MO-CM)。

技術(shù)特征

1、制取電子級超純水；
2、可連續(xù)自動(dòng)生產(chǎn)，不必停機(jī)再生；
3、出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法；
4、不需酸堿再生，不污染環(huán)境；
5、運(yùn)行成本低，占地面積??；

應(yīng)用范圍

1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品。

進(jìn)水標(biāo)準(zhǔn)

通常為單級反滲透或二級反滲透的滲透水。	TEA(總可交換陰離子，以CaCO3計(jì))：<25ppm。
電導(dǎo)率：<40μS/cm。	溫度： 5～35℃。
有機(jī)物( TOC)：<0.5ppm。	氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。
變價(jià)金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。	H2S：<0.01ppm。
二氧化硅：<0.5ppm。	色度：<5APHA。
二氧化碳的總量：<10ppm	SDI 15min：<1.0。
進(jìn)水壓力：<4bar(60psi)。	硬度：(以CaCO3計(jì))：<1.0ppm。
PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI工作的pH范圍為8.0～9.0。

出水標(biāo)準(zhǔn)

中國電子行業(yè)超純水國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T1146.1-1997
實(shí)驗(yàn)室用水國家標(biāo)準(zhǔn)GB6682-92
美國半導(dǎo)體工業(yè) 用純水指標(biāo)
美國試驗(yàn)級用水標(biāo)準(zhǔn)(ASTM/NCCLS)

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