噴淋塔廢氣凈化裝置主要適用范圍

    1、噴淋塔可廣泛應用于化工、電子、冶金、電鍍、紡織(化纖)、食品、機械制造等行業(yè)過程中排放的酸、堿性廢氣的凈化處理。如調味食品、制酸、酸洗、電鍍、電解、蓄電池等。2、噴淋塔可廣泛適用于印刷、蓄電池、有色金屬冶煉行業(yè)鉛煙塵或汞蒸汽的污染控制，以及化工、冶煉、電鍍、顯像管、印染、制藥、儀表、電子元件，機械制造等待業(yè)的酸洗廢氣或其它廢氣凈化。4、除塵領域中，噴淋塔可作為濕式除塵器，尤其適用于含塵濃度不高但氣體含有一定毒性的場合，只要選擇配置合理，凈化后的氣體均可達到國家排放標準。

    等離子處理設備也叫等離子表面處理機，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理設備就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。1.表面清洗在真空等離子腔體里，通過射頻電源在一定的壓力情況下產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，以達到清洗目的。2.表面活化經(jīng)過等離子表面處理機過后的物體，增強了表面能，親水性，提高粘合度，附著力。3.表面刻蝕材料表面通過反應氣體等離子被選擇性地刻蝕，被刻蝕的材料轉化為氣相并被真空泵排出，處理后的材料微觀比表面積增加并具良好親水性。4.納米涂層經(jīng)過等離子處理設備的處理之后，等離子引導的聚合化作用形成納米涂層。各類材料通過表面涂層，實現(xiàn)疏水性（疏水）、親水性（親水）、疏脂性（防脂）、疏油性（防油）。制造這個其實也是涉及到等離子刻蝕的過程，等離子表面處理機通過對物體表面進行等離子轟擊實現(xiàn)PBC去除表面膠質。PCB制造商用等離子處理設備的蝕刻系統(tǒng)進行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物，終提高產(chǎn)品質量。6.半導體/LED等離子在半導體行業(yè)的應用是基于集成電路的各種元器件及連接線很精細，那么在制程過程中就容易出現(xiàn)灰塵，或者有機物等污染，極其容易造成晶片的損壞，使其短路，為了要排除這些制程過程中產(chǎn)生的問題，在后來的制程過程中導入了等離子表面處理機設備進行前處理，利用等離子表面處理機是為了更好的保護我們的產(chǎn)品，在不破壞晶圓表面的性能的情況下來很好的利用等離子設備進行去除表面有機物和雜質等。在LED注環(huán)氧膠過程中，污染物會導致氣泡的成泡率偏高，從而導致產(chǎn)品質量及使用壽命低下，所以，避免封膠過程中形成氣泡同樣是人們關注的問題。通過射頻等離子清洗后，芯片與基板會更加緊密的和膠體相結合，氣泡的形成將大大減少，同時也將顯著提高散熱率及光的出射率.將等離子處理設備應用到金屬表面去油及清潔OLED這個涉及到的是等離子處理設備的清洗功能，TSP方面:觸摸屏的主要工藝的清洗，提高OCA/OCR，壓層，ACF，AR/AF涂層等工藝上的粘合力/涂層力，為去除氣泡/異物，通過多種大氣壓等離子形態(tài)的運用，可以將各種玻璃，薄膜均勻的大氣壓等離子放電使表面無損壞進行處理。8.真空等離子噴涂由于真空等離子中有很高的能量密度,實際上能將具有穩(wěn)定熔融相的所有粉狀材料轉化成為致密的、牢固附著的噴涂層,對噴涂層的質量起決定作用的是噴射粉粒在擊中工件表面瞬間的熔化程度。真空等離子噴涂技術為現(xiàn)代化多功能涂復設備提高了效率。