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福建某藥廠購買醫(yī)藥級研磨分散機用于藥物混懸液的研磨
點擊次數(shù)：515 發(fā)布時間：2014-7-8
混懸液膠體磨
混懸，不溶性固體顆粒分散于液體分散介質(zhì)的過程稱為混懸。
混懸液的穩(wěn)定劑，在混懸液里加入一種物質(zhì)，使混懸液保持亞穩(wěn)定狀態(tài)，加入的物質(zhì)稱為穩(wěn)定劑。
混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?；鞈乙褐兴幬镂⒘７稚⒍?/span>大，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。
若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應(yīng)用前兩種手段增加穩(wěn)定性。增稠劑可用糖漿、天然膠類、以及合成的可溶性纖維素類。
加入表面活性劑可以降低界面自由能，使系統(tǒng)更加穩(wěn)定，而且表面活性劑由可以作為潤濕劑，可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān)，若加入適量的絮凝劑（電解質(zhì)）使顆粒ζ電位降至一定程度，微粒就發(fā)生絮凝，混懸劑相對穩(wěn)定，絮凝沉淀物體積大，振搖后易再分散。加入反絮凝劑（電解質(zhì)）可以增加已存在固體表面的電荷，使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。
膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用*幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
高剪切膠體磨運行原理：
高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細化的物料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方 向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。設(shè)備咨詢： 陶 廣州辦
高剪切膠體磨主要用途
高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的*水平。
膠體磨應(yīng)用領(lǐng)域： ②化學工業(yè)：油漆、顏料、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、洗滌劑、玻璃鋼、白炭黑,二氧化硅等。 |
IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：
三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。
CM2000系列的特點：
①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
②齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
③溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
CM2000系列設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 馬達功率 KW | 出/入口連接 |
CM2000/4 | 700 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CM2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CM2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CM2000/20 | 20，000 | 2，850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CM2000/30 | 40，000 | 1，420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CM2000/50 | 80，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比
① 轉(zhuǎn)速：
國內(nèi)設(shè)備：目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。）
IKN：可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小)
② 三級結(jié)構(gòu)：
雖然都是三級結(jié)構(gòu)
國內(nèi)設(shè)備：溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣。
IKN：溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺。
③ 磨頭的結(jié)構(gòu)
國內(nèi)設(shè)備：斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大。
IKN： 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別，我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
④ zui大線速度（如磨頭的相同直徑）：
國內(nèi)設(shè)備：大約在10-15m/s
IKN：可達到23-40m/s
⑤ 模塊頭：
國內(nèi)設(shè)備：只有一種模塊頭。
IKN：可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。
⑥ 密封形式
國內(nèi)設(shè)備：單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀
IKN：雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)
⑦ 工作腔體方式
國內(nèi)設(shè)備：臥式或立式（馬達一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復(fù)雜，清洗苦難
IKN：立式，皮帶驅(qū)動，易于維護，可有效保護馬達及齒輪箱，防止損壞符合流體流動原理，易于清洗
⑧ 產(chǎn)品效果
國內(nèi)設(shè)備：粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差。
IKN：間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
膠體磨的細化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。