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日前，蘇大維格(300331.SZ)發(fā)布公告，公司擬籌劃以現(xiàn)金方式收購常州維普半導(dǎo)體設(shè)備有限公司(簡稱“常州維普”)不超過51%的股權(quán)，收購?fù)瓿珊?，預(yù)計實現(xiàn)對標(biāo)的公司的控股。標(biāo)的公司100%股權(quán)的整體估值暫定為不超過人民幣10億元，本次交易對價預(yù)計不超過人民幣5.10億元。 
公告顯示，常州維普是國內(nèi)極少數(shù)在半導(dǎo)體光掩模缺陷檢測設(shè)備領(lǐng)域已實現(xiàn)規(guī)模化量產(chǎn)的企業(yè)，其技術(shù)、產(chǎn)品和核心算法系正向自研開發(fā)，擁有自主知識產(chǎn)權(quán)，主要核心零部件實現(xiàn)了國產(chǎn)化和自主可控。標(biāo)的公司產(chǎn)品已進(jìn)入國內(nèi)頭部晶圓廠和國內(nèi)外頭部掩膜版廠商的量產(chǎn)線。
光掩模(Photomask)，又稱掩模、(光刻)掩膜版，光罩等，是微電子制造過程中圖形轉(zhuǎn)移的母版，是半導(dǎo)體、平板顯示等行業(yè)生產(chǎn)制造的關(guān)鍵核心材料。在光掩模缺陷檢測設(shè)備領(lǐng)域，設(shè)備國產(chǎn)率不足 3%，國產(chǎn)替代尚在早期，空間巨大。
目前，蘇大維格在高端智能裝備領(lǐng)域，研發(fā)、生產(chǎn)和銷售各類激光直寫光刻機(jī)和納米壓印光刻機(jī)，其中以激光直寫光刻機(jī)為主。激光直寫光刻機(jī)是用于生產(chǎn)制造光掩模的核心設(shè)備之一，國內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)所使用的激光直寫光刻機(jī)主要為美國應(yīng)用材料(Applied Materials)和瑞典邁康尼(Mycronic)等美歐企業(yè)所壟斷，國產(chǎn)化率極低。
蘇大維格一直致力于積極拓展激光直寫光刻機(jī)在半導(dǎo)體掩模制造領(lǐng)域的量產(chǎn)應(yīng)用和國產(chǎn)替代，潛在客戶群體和常州維普現(xiàn)有客戶體系基本重疊，收購常州維普，利用其現(xiàn)有客戶資源，有利于大大減少公司的客戶開發(fā)成本和產(chǎn)品驗證周期。
此外，激光直寫光刻機(jī)和掩模缺陷檢測設(shè)備，在核心部件構(gòu)成上相似度較高，均主要由光學(xué)系統(tǒng)、核心算法、軟件系統(tǒng)、精密運動控制平臺、電氣電控系統(tǒng)等五部分組成。公司在光學(xué)系統(tǒng)、精密運動控制平臺上有較深的技術(shù)積累，常州維普則在核心算法、軟件系統(tǒng)、電氣電控系統(tǒng)等方面有技術(shù)優(yōu)勢和量產(chǎn)經(jīng)驗。本次交易后，雙方優(yōu)勢互補，有利于增強(qiáng)公司在直寫光刻領(lǐng)域的研發(fā)實力，提高產(chǎn)品的迭代速度，提升設(shè)備的競爭力，加快國產(chǎn)替代的進(jìn)程，實現(xiàn)公司的戰(zhàn)略目標(biāo)，同時積極響應(yīng)國家在集成電路領(lǐng)域的發(fā)展規(guī)劃。
蘇大維格表示，本次簽署的《股權(quán)收購意向協(xié)議》僅為公司與標(biāo)的公司股東方達(dá)成的初步意向，本次股權(quán)收購事宜尚處于籌劃階段，在未完成相關(guān)審批程序、未實施完成股權(quán)收購事項之前，該籌劃活動不會對公司生產(chǎn)經(jīng)營和業(yè)績產(chǎn)生重大影響。本次交易正式協(xié)議尚未簽署，收購事項仍存在不確定性，暫時無法預(yù)計對公司經(jīng)營業(yè)績的影響。
2025年中期，蘇大維格營業(yè)總收入9.82億元，歸母凈利潤3066.17萬元。
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